Fraunhofer beteiligt sich am französischen Unternehmen S’Tile SA
Das französische Start-up-Unternehmen S’Tile SA hat ein Verfahren entwickelt, das dünne Solarzellen aus Silizium auf einem kostengünstigen Träger ermöglicht – und das bei fast gleichem Wirkungsgrad wie Standard-Siliziumsolarzellen. Das Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE hat dazu eine Schlüsseltechnologie entwickelt.
Die Fraunhofer-Gesellschaft beteiligt sich nun mit einem sechsstelligen Betrag an dem Unternehmen. Ein Synergie-Effekt, der dieser zukunftsträchtigen Technologie neue Möglichkeiten eröffnet.
S‘Tile fertigt so genannte Waferäquivalente, in dem auf einem Substrat aus kostengünstigem Siliziumpulver eine photoaktive Schicht aus Silizium abgeschieden wird. Dieses Waferäquivalent kann dabei ähnliche Wirkungsgrade wie eine monokristalline Solarzelle erreichen: Prototypen weisen aktuell einen Wirkungsgrad von 14 Prozent auf; in den nächsten vier Jahren sollen bis zu 20 Prozent erreicht werden. Dieser Prozess kombiniert die Kostenvorteile in der Produktion der Dünnfilmtechnologie mit der hohen Effizienz und Dauerhaftigkeit der kristallinen Technologie, sodass hochwirksame Solarzellenmodule mit weit weniger Aufwand und Kosten produziert werden können als dies bisher der Fall war.
Die Ingenieure von S‘Tile haben in den vergangenen Jahren umfassendes Know-how auf dem Gebiet der Substratherstellung aufgebaut, nun ist es Zeit für den nächsten Schritt: die industrielle Fertigung der Waferäquivalente. Zu diesem Zweck hat das Unternehmen ein Konsortium aus Investoren aus Industrie und Finanzwirtschaft zusammengestellt (u.a. Poitou Charente Innovation, Fonds de co-investissement Poitou Charente, Sergies ECM und Machines Dubuit), um diesen Plan, das nach Berechnungen des Unternehmens ein Gesamtvolumen von etwa 18 Millionen Euro besitzt, in die Tat umzusetzen.
Dabei spielen die Industrieinvestoren aus verwandten Arbeitsgebieten eine wichtige Rolle, die in der neuen Technolgie große Zukunftschancen sehen.
Mit dem Fraunhofer ISE investiert seit dem Vertragsabschluss Ende 2012 auch eine Forschungseinrichtung in das Unternehmen, die ebenfalls seit Jahren im Bereich der Waferäquivalente forscht. Zwischen S‘Tile und dem Fraunhofer ISE besteht zudem eine langjährige wissenschaftliche Zusammenarbeit. S‘Tile entwickelt hierbei die neuen, kostengünstigen Substrate, während das Fraunhofer ISE die Silizium-Epitaxieschichten auf diesen Substraten abscheidet.